電子科學(xué)和信息技術(shù)的興起使人類依賴電子設(shè)備,但電磁輻射暴露增加導(dǎo)致健康問題及影響精密儀器等,電磁干擾(EMI)屏蔽和微波吸收材料成為關(guān)鍵。同時(shí),電子設(shè)備小型化帶來散熱問題,開發(fā)兼具EMI屏蔽和熱管理性能的復(fù)合材料迫在眉睫。相變材料(PCMs)在熱管理中潛力巨大,但存在形狀不穩(wěn)定、易泄漏等缺陷,可通過納米/微膠囊化、靜電紡絲等方法改善。MXene作為二維材料,因高導(dǎo)電性、優(yōu)異柔韌性等特性,被廣泛應(yīng)用于EMI屏蔽材料制備,但其在潮濕環(huán)境中穩(wěn)定性差。因此,設(shè)計(jì)兼具防水性能、EMI屏蔽和熱管理性能的先進(jìn)復(fù)合薄膜具有重要意義。
.png)
圖1. PMF復(fù)合薄膜的微觀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)示意圖及功能展示(P:PAN@PEG同軸纖維;M:MXene涂層;F:PVDF@SiO2纖維層)。
解析
這段文字描述了圖1的內(nèi)容,主要聚焦于一種名為PMF的復(fù)合薄膜的微觀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及其功能展示。以下是對各部分的詳細(xì)解析:
1、PMF復(fù)合薄膜:
PMF是這種復(fù)合薄膜的簡稱,它由多層不同材料組成,具有特定的功能和性能。
2、微觀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)示意圖:
圖1是一個(gè)示意圖,用于展示PMF復(fù)合薄膜的微觀結(jié)構(gòu)。這種設(shè)計(jì)通常是在納米或微米尺度上進(jìn)行的,旨在通過精確控制各層材料的排列和組合,實(shí)現(xiàn)特定的物理和化學(xué)性能。
3、P: PAN@PEG同軸纖維:
P代表PAN@PEG同軸纖維,這是復(fù)合薄膜的一部分。
PAN(聚丙烯腈)和PEG(聚乙二醇)通過同軸電紡技術(shù)結(jié)合在一起,形成同軸纖維。這種結(jié)構(gòu)使得PEG被包裹在PAN內(nèi)部,形成了核殼結(jié)構(gòu),有助于解決PEG在相變過程中的泄漏問題,并提高其形狀穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性。
4、M: MXene涂層:
M代表MXene涂層,它被噴涂在PAN@PEG同軸纖維的表面。
MXene是一種二維材料,具有高導(dǎo)電性、優(yōu)異的柔韌性和良好的電磁屏蔽性能。通過噴涂MXene涂層,可以顯著提高復(fù)合薄膜的電磁屏蔽效果,同時(shí)保持其柔韌性。
5、F: PVDF@SiO2纖維層:
F代表PVDF@SiO2纖維層,這是復(fù)合薄膜的最外層。
PVDF(聚偏氟乙烯)是一種具有優(yōu)異疏水性和化學(xué)穩(wěn)定性的材料。通過與SiO2(二氧化硅)納米粒子結(jié)合,可以進(jìn)一步提高PVDF纖維層的疏水性。
這層疏水纖維層不僅保護(hù)了內(nèi)部的MXene涂層不受潮濕環(huán)境的影響,還賦予了復(fù)合薄膜良好的防水性能。
6、功能展示:
圖1還展示了PMF復(fù)合薄膜的各種功能,包括但不限于優(yōu)異的熱管理性能(如相變儲能和熱傳導(dǎo))、電磁屏蔽性能以及疏水性能。
這些功能使得PMF復(fù)合薄膜在電子設(shè)備熱管理、電磁干擾屏蔽以及潮濕環(huán)境下的穩(wěn)定應(yīng)用等方面具有廣闊的前景。
.png)
圖2. a) 展示PEG@PAN同軸纖維膜和PM復(fù)合膜制備過程的示意圖。b1-b2) PEG@PAN同軸纖維的掃描電子顯微鏡(SEM)圖像,b3) 直徑分布直方圖,b4) PEG@PAN同軸纖維橫截面的SEM圖像。c1-c3) 同軸纖維在不同放大倍數(shù)下的透射電子顯微鏡(TEM)圖像。d) PEG、PEG@PAN、PM和MXene的X射線衍射(XRD)圖譜。e1-e2) PM復(fù)合膜表面的SEM圖像。f1) PM復(fù)合膜橫截面的SEM圖像以及f2–f4) Ti、O、C元素的映射圖像。g) PAN、PEG、MXene和PM復(fù)合膜的熱重分析(TG)圖。
解析
圖2a:
*示意圖:圖2a是一個(gè)示意圖,展示了PEG@PAN同軸纖維膜和PM(PEG@PAN/MXene)復(fù)合膜的制備過程。這個(gè)過程可能包括同軸電紡絲技術(shù)、涂層噴涂工藝等步驟,用于構(gòu)建具有特定微結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜。
圖2b1-b2 & b4:
*SEM圖像:這些圖像展示了PEG@PAN同軸纖維的表面和橫截面形態(tài)。通過SEM可以清晰地觀察到纖維的形貌,如同軸結(jié)構(gòu)、纖維直徑等。
*直徑分布直方圖(b3):該直方圖提供了纖維直徑的分布情況,有助于了解纖維的均勻性和尺寸范圍。
圖2c1-c3:
*TEM圖像:透射電子顯微鏡圖像提供了同軸纖維內(nèi)部結(jié)構(gòu)的更詳細(xì)信息,如核殼結(jié)構(gòu)、界面清晰度等。不同放大倍數(shù)下的圖像有助于全面理解纖維的微觀結(jié)構(gòu)。
圖2d:
*XRD圖譜:X射線衍射圖譜用于分析PEG、PEG@PAN、PM和MXene的晶體結(jié)構(gòu)。通過比較不同樣品的XRD圖譜,可以確認(rèn)MXene的成功合成以及PEG在復(fù)合膜中的晶體結(jié)構(gòu)是否保持完整。
圖2e1-e2:
*PM復(fù)合膜表面的SEM圖像:這些圖像展示了PM復(fù)合膜表面的形貌,包括MXene涂層在PEG@PAN纖維上的分布情況和表面平整度等。
圖2f1-f4:
*PM復(fù)合膜橫截面的SEM圖像及元素映射:橫截面SEM圖像揭示了復(fù)合膜的內(nèi)部結(jié)構(gòu),如層狀結(jié)構(gòu)、MXene涂層與PEG@PAN纖維之間的界面結(jié)合情況等。元素映射圖像(Ti、O、C)則進(jìn)一步確認(rèn)了MXene涂層在復(fù)合膜中的均勻分布以及各組分的存在。
圖2g:
*TG分析:熱重分析圖展示了PAN、PEG、MXene和PM復(fù)合膜在不同溫度下的質(zhì)量變化情況。通過分析TG曲線,可以評估復(fù)合膜的熱穩(wěn)定性以及各組分在加熱過程中的分解行為。這對于理解復(fù)合膜在高溫環(huán)境下的性能表現(xiàn)具有重要意義。
.png)
圖3. a1) 扭曲后的PM復(fù)合薄膜照片,a2) 呈飛機(jī)形狀的PM薄膜照片,以及a3) 恢復(fù)原狀的PM薄膜照片。b) 形狀穩(wěn)定性實(shí)驗(yàn)的數(shù)碼照片。c) 在80°C下,P薄膜、PM復(fù)合薄膜和純PEG在不同時(shí)間段的泄漏率。
解析
這段文字描述了圖3中的內(nèi)容,該圖主要展示了PM復(fù)合薄膜的柔韌性、形狀穩(wěn)定性以及在不同溫度下的泄漏率實(shí)驗(yàn)結(jié)果。
1、a1), a2), a3) 部分:
*a1) 展示了PM復(fù)合薄膜在扭曲后的狀態(tài),表明該薄膜具有良好的柔韌性和可塑性。
*a2) 展示了PM薄膜可以被塑形成飛機(jī)等復(fù)雜形狀,進(jìn)一步證明了其優(yōu)異的柔韌性和形狀可塑性。
*a3) 展示了PM薄膜在變形后能夠恢復(fù)其原始形狀,表明該薄膜具有良好的形狀恢復(fù)能力。
2、b) 部分:
*展示了形狀穩(wěn)定性實(shí)驗(yàn)的數(shù)碼照片。這個(gè)實(shí)驗(yàn)可能是通過將薄膜置于高溫環(huán)境下,觀察其形狀是否發(fā)生變化來評估薄膜的形狀穩(wěn)定性。從照片中可以直觀地看到薄膜在實(shí)驗(yàn)過程中的形狀變化情況。
3、c) 部分:
*描述了在不同時(shí)間段(如0, 5, 10, 30, 60分鐘)下,P薄膜、PM復(fù)合薄膜和純PEG在80°C高溫下的泄漏率。泄漏率是評估薄膜在高溫下保持其內(nèi)容物(如相變材料PEG)不泄漏的能力的重要指標(biāo)。通過比較不同薄膜的泄漏率,可以評估PM復(fù)合薄膜在高溫下的穩(wěn)定性和封裝效果。
4、整體解析:
圖3通過照片和實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)展示了PM復(fù)合薄膜的柔韌性、形狀穩(wěn)定性以及高溫下的泄漏率。這些性能對于電子設(shè)備的熱管理和電磁屏蔽應(yīng)用至關(guān)重要。柔韌性和形狀穩(wěn)定性使得薄膜能夠適應(yīng)各種復(fù)雜的形狀和彎曲需求,而良好的高溫穩(wěn)定性則確保了薄膜在實(shí)際應(yīng)用中的可靠性和耐久性。
.png)
圖4. a) 不同MXene負(fù)載量的PM復(fù)合薄膜的DSC測試曲線,b) 熔化和凝固焓以及相變溫度。c) PM0.70復(fù)合薄膜在300次熱循環(huán)前后的DSC曲線,d) 相變溫度和相變焓。e) 300次熱循環(huán)前后PM復(fù)合薄膜的熔化和凝固焓,f) 相變溫度。
解析
這段文字描述了圖4中展示的一系列關(guān)于PM(PEG@PAN/MXene)復(fù)合薄膜的熱性能測試結(jié)果,具體解析如下:
圖4a:展示了不同MXene負(fù)載量的PM復(fù)合薄膜的DSC(差示掃描量熱法)測試曲線。DSC是一種用于測量材料在加熱或冷卻過程中吸收或釋放熱量的技術(shù),常用于研究材料的相變行為。通過這些曲線,可以分析出不同MXene含量對PM復(fù)合薄膜熱性能的影響。
圖4b:呈現(xiàn)了不同MXene負(fù)載量的PM復(fù)合薄膜的熔化和凝固焓以及相變溫度。熔化和凝固焓是材料在相變過程中吸收或釋放的熱量,是評估材料熱儲存能力的重要指標(biāo)。相變溫度則是指材料發(fā)生相變的溫度點(diǎn)。這些數(shù)據(jù)有助于理解MXene含量如何影響PM復(fù)合薄膜的相變行為和熱儲存性能。
圖4c:展示了PM0.70復(fù)合薄膜(即MXene負(fù)載量為0.70mg/cm²的復(fù)合薄膜)在300次熱循環(huán)前后的DSC曲線。熱循環(huán)測試用于評估材料在反復(fù)加熱和冷卻過程中的熱穩(wěn)定性和耐久性。通過比較熱循環(huán)前后的DSC曲線,可以分析出PM0.70復(fù)合薄膜在經(jīng)歷多次熱循環(huán)后其熱性能是否發(fā)生變化。
圖4d:提供了PM0.70復(fù)合薄膜在300次熱循環(huán)前后的相變溫度和相變焓。這些數(shù)據(jù)進(jìn)一步量化了熱循環(huán)對PM0.70復(fù)合薄膜相變行為和熱儲存性能的具體影響。
圖4e:展示了300次熱循環(huán)前后PM復(fù)合薄膜的熔化和凝固焓。通過這些數(shù)據(jù),可以評估不同MXene負(fù)載量的PM復(fù)合薄膜在熱循環(huán)過程中的熱穩(wěn)定性,即其熱儲存性能是否因熱循環(huán)而顯著下降。
圖4f:提供了300次熱循環(huán)前后PM復(fù)合薄膜的相變溫度。這些數(shù)據(jù)有助于理解熱循環(huán)對PM復(fù)合薄膜相變溫度的影響,從而評估其在長期使用過程中的可靠性和穩(wěn)定性。
總體而言,這段文字和圖4共同展示了PM復(fù)合薄膜在不同MXene負(fù)載量下的熱性能,以及其在經(jīng)歷多次熱循環(huán)后的熱穩(wěn)定性和耐久性。這對于評估PM復(fù)合薄膜在實(shí)際應(yīng)用中的性能表現(xiàn)具有重要意義。
.png)
圖5. a) 不同MXene負(fù)載密度的PM復(fù)合薄膜的電導(dǎo)率,b) 電磁干擾屏蔽值,c) 平均EMI SE_T、SE_A和SE_R值,以及d) R、T和A系數(shù)。e) PM復(fù)合薄膜電磁干擾屏蔽機(jī)制的示意圖。
解析
這段文字描述了圖5中展示的一系列關(guān)于PM(PEG@PAN/MXene)復(fù)合薄膜的性能測試結(jié)果和機(jī)制示意圖,具體解析如下:
a) 電導(dǎo)率:
這部分展示了不同MXene負(fù)載密度下PM復(fù)合薄膜的電導(dǎo)率。MXene作為一種高導(dǎo)電性的二維材料,其負(fù)載密度的增加會直接影響復(fù)合薄膜的電導(dǎo)率。隨著MXene含量的增加,復(fù)合薄膜的電導(dǎo)率顯著提升,這有助于增強(qiáng)其電磁干擾(EMI)屏蔽性能。
b) 電磁干擾屏蔽值:
這部分?jǐn)?shù)據(jù)展示了PM復(fù)合薄膜在不同MXene負(fù)載密度下的EMI屏蔽效能(SE)。屏蔽效能是衡量材料阻擋或衰減電磁波能力的指標(biāo)。隨著MXene負(fù)載密度的增加,PM復(fù)合薄膜的EMI屏蔽值顯著提高,表明其屏蔽電磁干擾的能力增強(qiáng)。
c) 平均EMI SE_T、SE_A和SE_R值:
SE_T代表總屏蔽效能,SE_A代表吸收屏蔽效能,SE_R代表反射屏蔽效能。這部分?jǐn)?shù)據(jù)提供了不同MXene負(fù)載密度下PM復(fù)合薄膜的平均SE_T、SE_A和SE_R值。這些數(shù)據(jù)有助于理解復(fù)合薄膜在屏蔽電磁波時(shí),吸收和反射機(jī)制各自貢獻(xiàn)的大小。
d) R、T和A系數(shù):
R代表反射系數(shù),T代表透射系數(shù),A代表吸收系數(shù)。這些系數(shù)描述了電磁波與材料相互作用時(shí)的行為。高反射系數(shù)意味著電磁波被材料表面反射,高吸收系數(shù)意味著電磁波被材料吸收,而低透射系數(shù)則表明電磁波難以穿透材料。這部分?jǐn)?shù)據(jù)展示了不同MXene負(fù)載密度下PM復(fù)合薄膜的R、T和A系數(shù),進(jìn)一步揭示了其屏蔽電磁波的機(jī)制。
e) PM復(fù)合薄膜電磁干擾屏蔽機(jī)制的示意圖:
這部分提供了一個(gè)示意圖,直觀展示了PM復(fù)合薄膜如何屏蔽電磁波。示意圖可能包括電磁波如何與MXene層相互作用,通過反射和吸收機(jī)制被衰減,以及多層結(jié)構(gòu)如何增強(qiáng)這些效應(yīng)。這種直觀展示有助于理解復(fù)合薄膜的屏蔽機(jī)制及其性能優(yōu)化的原因。
總結(jié)
圖5通過展示電導(dǎo)率、EMI屏蔽值、平均屏蔽效能分量(SE_T、SE_A、SE_R)以及反射、透射和吸收系數(shù),全面評估了不同MXene負(fù)載密度下PM復(fù)合薄膜的電磁干擾屏蔽性能。同時(shí),通過示意圖直觀展示了復(fù)合薄膜的屏蔽機(jī)制,為理解其性能提供了有力支持。這些數(shù)據(jù)對于設(shè)計(jì)和優(yōu)化具有高效EMI屏蔽性能的復(fù)合薄膜材料具有重要意義。
.png)
圖6. a) 電子芯片熱管理模擬實(shí)驗(yàn)的示意圖。b–d) 分別在1.44 W、0.77 W和2.01 W功率下加熱360秒時(shí),未覆蓋(None)和覆蓋PM0.70復(fù)合膜的模擬芯片的時(shí)間-溫度曲線(由插入的熱電偶溫度計(jì)監(jiān)測)。e) 在1.44 W功率下加熱360秒時(shí),PAN/MXene和PM0.70復(fù)合膜的時(shí)間-溫度曲線,以及f) 在0.77 W、1.44 W和2.01 W功率下加熱360秒時(shí),PM0.70復(fù)合膜的時(shí)間-溫度曲線(由紅外熱像儀記錄)。g) PEG@PAN膜和PM0.70膜在垂直和平行方向上的熱擴(kuò)散系數(shù)。h,i) 使用不同測試條件時(shí)PM0.70膜的DSC測試曲線,以及j) 相變溫度和相變焓。
解析
圖6a: 電子芯片熱管理模擬實(shí)驗(yàn)的示意圖
*內(nèi)容:該圖展示了電子芯片熱管理模擬實(shí)驗(yàn)的設(shè)置,包括芯片、覆蓋的復(fù)合膜(如PM0.70)、電源以及溫度監(jiān)測設(shè)備(熱電偶溫度計(jì)和紅外熱像儀)。
*目的:通過模擬實(shí)驗(yàn)評估復(fù)合膜在電子設(shè)備熱管理中的性能。
圖6b–d: 時(shí)間-溫度曲線(不同功率下,未覆蓋與覆蓋PM0.70復(fù)合膜的芯片)
*內(nèi)容:這些圖展示了在1.44 W、0.77 W和2.01 W三種不同功率下,未覆蓋任何膜的芯片和覆蓋了PM0.70復(fù)合膜的芯片在加熱360秒過程中的時(shí)間-溫度變化。
*監(jiān)測設(shè)備:熱電偶溫度計(jì)。
*結(jié)果分析:
² 覆蓋PM0.70復(fù)合膜的芯片溫度上升較慢,表明復(fù)合膜具有良好的熱管理性能,能有效抵抗熱沖擊并防止芯片溫度迅速升高。
² 不同功率下,PM0.70復(fù)合膜均表現(xiàn)出顯著的熱阻隔效果。
圖6e: 時(shí)間-溫度曲線(PAN/MXene與PM0.70復(fù)合膜,1.44 W功率)
*內(nèi)容:比較了在1.44 W功率下加熱360秒時(shí),PAN/MXene膜和PM0.70復(fù)合膜的時(shí)間-溫度曲線。
*監(jiān)測設(shè)備:紅外熱像儀。
*結(jié)果分析:
² PM0.70復(fù)合膜在相同條件下表現(xiàn)出更優(yōu)的熱管理性能,溫度上升更慢。
² 表明MXene涂層與PEG@PAN纖維的協(xié)同作用增強(qiáng)了熱阻隔效果。
圖6f: 時(shí)間-溫度曲線(PM0.70復(fù)合膜,不同功率)
*內(nèi)容:展示了在0.77 W、1.44 W和2.01 W三種不同功率下,PM0.70復(fù)合膜在加熱360秒過程中的時(shí)間-溫度變化。
*監(jiān)測設(shè)備:紅外熱像儀。
*結(jié)果分析:
² 隨著功率的增加,芯片溫度上升加快,但PM0.70復(fù)合膜仍能有效減緩溫度上升速度。
² 表明復(fù)合膜在不同功率下均具有良好的熱管理性能。
圖6g: 熱擴(kuò)散系數(shù)(PEG@PAN膜與PM0.70膜)
*內(nèi)容:比較了PEG@PAN膜和PM0.70膜在垂直和平行方向上的熱擴(kuò)散系數(shù)。
*結(jié)果分析:
² PM0.70膜的熱擴(kuò)散系數(shù)在垂直和平行方向上均高于PEG@PAN膜,表明MXene涂層的引入提高了復(fù)合膜的熱傳導(dǎo)能力。
² 高熱傳導(dǎo)能力有助于快速分散芯片產(chǎn)生的熱量,提高熱管理效率。
圖6h,i: DSC測試曲線(PM0.70膜,不同測試條件)
*內(nèi)容:展示了在不同測試條件下(如不同加熱速率或最高溫度),PM0.70膜的DSC測試曲線。
*目的:評估測試條件對復(fù)合膜相變行為的影響。
*結(jié)果分析:
² 不同測試條件下,PM0.70膜均表現(xiàn)出典型的相變行為,但相變溫度和焓值可能略有不同。
² 表明測試條件對相變行為有一定影響,但不影響復(fù)合膜作為熱管理材料的整體性能。
圖6j: 相變溫度和相變焓(PM0.70膜)
*內(nèi)容:總結(jié)了在不同測試條件下,PM0.70膜的相變溫度和相變焓值。
*結(jié)果分析:
² 相變溫度和焓值是評估相變材料熱性能的重要指標(biāo)。
² PM0.70膜在不同條件下均表現(xiàn)出較高的相變焓值,表明其具有良好的熱能存儲和釋放能力。
² 相變溫度的穩(wěn)定性表明復(fù)合膜在實(shí)際應(yīng)用中能在較寬的溫度范圍內(nèi)保持穩(wěn)定的熱管理性能。
.png)
圖7. a) 展示PMF復(fù)合薄膜制備過程的示意圖。b) 不同SiO2含量(0%、c) 15%、d) 20%、e) 30%)的PVDF@SiO2纖維薄膜的掃描電子顯微鏡(SEM)圖像及直徑分布直方圖。f) PM0.70F30復(fù)合薄膜表面的SEM圖像、元素映射圖像及能量色散X射線(EDAX)光譜。g1) PM0.70F0、g2) PM0.70F15、g3) PM0.70F20和g4) PM0.70F30的水接觸角。h) PMF復(fù)合薄膜的柔韌性和疏水性特征,以及PM0.70F30復(fù)合薄膜的防水實(shí)驗(yàn)示意圖。
解析
這段文字詳細(xì)描述了圖7中展示的內(nèi)容,主要包括以下幾個(gè)方面:
1、PMF復(fù)合薄膜制備過程的示意圖:
圖7a展示了PMF(PEG@PAN/MXene/PVDF@SiO2)復(fù)合薄膜的制備過程,包括同軸靜電紡絲、噴涂和單軸靜電紡絲等步驟。
2、PVDF@SiO2纖維薄膜的SEM圖像及直徑分布:
*圖7b至e展示了不同SiO2含量(0%、15%、20%、30%)的PVDF@SiO2纖維薄膜的SEM圖像。這些圖像顯示了纖維的微觀結(jié)構(gòu)和直徑分布,隨著SiO2含量的增加,纖維表面的粗糙度增加,直徑有所減小。
*直徑分布直方圖:展示了不同SiO2含量下纖維直徑的分布情況,有助于理解SiO2對纖維形態(tài)的影響。
3、PM0.70F30復(fù)合薄膜表面的SEM圖像、元素映射及EDAX光譜:
*圖7f展示了PM0.70F30復(fù)合薄膜表面的SEM圖像,顯示了PVDF@SiO2纖維層緊密附著在PM薄膜上的情況。
*元素映射圖像:顯示了薄膜表面元素的分布情況,確認(rèn)了SiO2的成功引入。
*EDAX光譜:提供了薄膜表面的元素組成信息,進(jìn)一步驗(yàn)證了SiO2的存在。
4、水接觸角測量:
*圖7g1至g4展示了不同SiO2含量(0%、15%、20%、30%)的PMF復(fù)合薄膜的水接觸角。隨著SiO2含量的增加,水接觸角增大,表明薄膜的疏水性增強(qiáng)。
*水接觸角:是衡量材料表面疏水性的重要指標(biāo),水接觸角越大,疏水性越強(qiáng)。
5、PMF復(fù)合薄膜的柔韌性和疏水性特征及防水實(shí)驗(yàn):
*圖7h展示了PMF復(fù)合薄膜的柔韌性和疏水性特征,包括薄膜的彎曲和折疊能力,以及水滴在薄膜表面的行為。
*防水實(shí)驗(yàn)示意圖:展示了PM0.70F30復(fù)合薄膜在實(shí)際應(yīng)用中的防水性能,證明了該薄膜在潮濕環(huán)境下的穩(wěn)定性和可靠性。
總結(jié)
圖7通過多種表征手段(SEM、元素映射、EDAX、水接觸角測量等)詳細(xì)展示了PMF復(fù)合薄膜的微觀結(jié)構(gòu)、元素組成、疏水性能以及在實(shí)際應(yīng)用中的防水性能。這些結(jié)果為理解PMF復(fù)合薄膜的性能提供了重要的實(shí)驗(yàn)依據(jù)。
.png)
圖8展示了PM0、PM0.70和PM0.70F30三種復(fù)合薄膜在不同測試條件下的性能表現(xiàn)。這些測試包括力學(xué)性能測試(應(yīng)力-應(yīng)變曲線)、熱性能測試(DSC測試曲線、熔化和凝固焓及相變溫度)以及電磁干擾(EMI)屏蔽性能測試(EMI屏蔽值、平均EMI SET、SEA和SER值,以及R、T和A系數(shù))。
詳細(xì)解析:
a) 應(yīng)力-應(yīng)變曲線:
1. 展示了PM0、PM0.70和PM0.70F30三種復(fù)合薄膜在拉伸過程中的應(yīng)力與應(yīng)變關(guān)系。
2. 通過分析這些曲線,可以評估不同薄膜的力學(xué)性能,如拉伸強(qiáng)度、斷裂伸長率等。
3. 圖中可能顯示PM0.70F30復(fù)合薄膜在保持一定柔韌性的同時(shí),具有較高的拉伸強(qiáng)度,表明其機(jī)械性能滿足實(shí)際應(yīng)用需求。
b) DSC測試曲線:
1. DSC(差示掃描量熱法)測試用于分析材料在加熱和冷卻過程中的熱效應(yīng)。
2. 圖中展示了PM0.70和PM0.70F30復(fù)合薄膜的DSC曲線,可以觀察到材料的熔化和凝固過程。
3. 通過分析DSC曲線,可以確定材料的熔化和凝固溫度范圍,以及相應(yīng)的焓變值。
c) 熔化和凝固焓及相變溫度:
1. 具體列出了PM0.70和PM0.70F30復(fù)合薄膜的熔化和凝固焓值,以及相變溫度。
2. 熔化和凝固焓值反映了材料在相變過程中吸收或釋放的熱量,是評估材料熱性能的重要指標(biāo)。
3. 相變溫度則決定了材料在實(shí)際應(yīng)用中能夠有效工作的溫度范圍。
d) EMI屏蔽值:
1. 展示了PM0.70和PM0.70F30復(fù)合薄膜在X波段(8-12GHz)的電磁干擾屏蔽效能(EMI SE)。
2. EMI SE值越高,表示材料對電磁波的屏蔽效果越好,能夠有效保護(hù)電子設(shè)備免受電磁干擾的影響。
e) 平均EMI SET、SEA和SER值:
1. SET(總屏蔽效能)、SEA(吸收屏蔽效能)和SER(反射屏蔽效能)是評估材料EMI屏蔽性能的三個(gè)重要參數(shù)。
2. 圖中展示了PM0.70和PM0.70F30復(fù)合薄膜的平均SET、SEA和SER值,可以全面了解材料在不同頻段的屏蔽性能。
f) R、T和A系數(shù):
1. R(反射系數(shù))、T(透射系數(shù))和A(吸收系數(shù))是描述電磁波與材料相互作用的重要參數(shù)。
2. 圖中展示了PM0.70和PM0.70F30復(fù)合薄膜的R、T和A系數(shù),可以分析材料對電磁波的反射、透射和吸收特性。
3. 低T值和高R、A值表明材料具有良好的EMI屏蔽性能,能夠有效反射和吸收電磁波。
通過微結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),利用同軸靜電紡絲、涂層噴涂及單軸靜電紡絲技術(shù),制備了多層柔性PEG@PAN/MXene/PVDF@SiO2(PMF)復(fù)合薄膜。該薄膜有效封裝了PEG,解決了泄漏、形狀不穩(wěn)定及易碎問題,展現(xiàn)出133.77J g?¹的高能量存儲密度及經(jīng)300次熱循環(huán)的優(yōu)異熱可靠性。噴涂MXene涂層后,PM復(fù)合薄膜在保持出色熱管理性能的同時(shí),實(shí)現(xiàn)了優(yōu)異的EMI屏蔽性能,其中PM0.70復(fù)合薄膜在X波段EMI SE達(dá)34.409dB,SSE為49.086dB cm³g?¹。添加PVDF@SiO2纖維層后,PMF復(fù)合薄膜具備疏水性,水接觸角達(dá)126.5°,且保留了熱管理和EMI屏蔽性能。這一創(chuàng)新為電子設(shè)備提供了集優(yōu)異EMI屏蔽、熱管理、疏水性及簡單加工于一體的先進(jìn)復(fù)合薄膜,滿足了電子設(shè)備的多個(gè)關(guān)鍵需求,為未來研究微結(jié)構(gòu)對宏觀性能的影響奠定了基礎(chǔ)。DOI: 10.1002/smll.202402938
本文創(chuàng)新點(diǎn)主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:
1、多層復(fù)合結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì):
創(chuàng)新性地設(shè)計(jì)了多層復(fù)合結(jié)構(gòu)的PEG@PAN/MXene/PVDF@SiO2(PMF)復(fù)合薄膜,通過同軸靜電紡絲、噴涂和單軸靜電紡絲技術(shù),將相變材料(PEG)、導(dǎo)電材料(MXene)和疏水材料(PVDF@SiO2)有效結(jié)合,實(shí)現(xiàn)了材料的多功能化。
2、優(yōu)異的熱管理能力:
利用相變材料PEG的高潛熱儲存特性,結(jié)合同軸靜電紡絲技術(shù),有效解決了PEG在工作過程中的泄漏問題,提高了形狀穩(wěn)定性和熱可靠性。復(fù)合薄膜展現(xiàn)出高能量儲存密度(120.77 J/g)和出色的熱循環(huán)穩(wěn)定性(經(jīng)過300次熱循環(huán)后性能基本不變)。
3、高效的電磁干擾屏蔽性能:
通過在PEG@PAN纖維膜表面噴涂MXene涂層,構(gòu)建了導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò),顯著提高了復(fù)合薄膜的導(dǎo)電性,從而實(shí)現(xiàn)了優(yōu)異的電磁干擾屏蔽效果(在X波段EMI SE達(dá)到34.409 dB,SSE達(dá)到49.086 dB cm³/g)。這種屏蔽性能主要?dú)w因于電磁波在材料內(nèi)部的多重反射和吸收。
4、獨(dú)特的疏水性能:
在PM復(fù)合薄膜表面引入PVDF@SiO2纖維層,通過增加表面粗糙度,顯著提高了復(fù)合薄膜的疏水性(水接觸角達(dá)到126.5°)。這一創(chuàng)新設(shè)計(jì)有效防止了MXene涂層在潮濕環(huán)境中的氧化降解,拓寬了材料的應(yīng)用范圍。
5、綜合性能優(yōu)異:
PMF復(fù)合薄膜不僅具備上述單一功能,還通過各層之間的協(xié)同作用,實(shí)現(xiàn)了熱管理、電磁屏蔽和疏水性能的綜合提升。這種多功能復(fù)合薄膜在電子設(shè)備領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景,能夠滿足電子設(shè)備對材料性能的多樣化需求。
6、制備工藝簡單且可擴(kuò)展:
采用同軸靜電紡絲、噴涂和單軸靜電紡絲等簡單且成熟的制備工藝,使得PMF復(fù)合薄膜的制備過程易于控制且成本較低。同時(shí),這些工藝具有良好的可擴(kuò)展性,為大規(guī)模生產(chǎn)提供了可能。
7、深入的性能探索與機(jī)制分析:
文獻(xiàn)不僅報(bào)道了PMF復(fù)合薄膜的優(yōu)異性能,還深入探討了其熱管理、電磁屏蔽和疏水性能的工作機(jī)制。通過系統(tǒng)的實(shí)驗(yàn)和理論分析,揭示了材料性能與微觀結(jié)構(gòu)之間的關(guān)系,為后續(xù)研究提供了有價(jià)值的參考。
這些創(chuàng)新點(diǎn)共同構(gòu)成了該文獻(xiàn)在電子設(shè)備用多功能復(fù)合薄膜領(lǐng)域的顯著貢獻(xiàn),為開發(fā)新型高性能電子設(shè)備材料提供了新的思路和方法。
轉(zhuǎn)自《石墨烯研究》公眾號